国产化率90%，「朗道燧岩」EUV光源样机首次公开亮相｜云启伙伴

近日，在第二十六届中国国际工业博览会上，**云启早期被投企业「朗道燧岩」**首次公开展示极紫外（EUV）光源系统样机。

据现场公开信息，此次展出的光源系统国产化率达到90%，绝大多数核心零部件实现自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，并已可用于芯片曝光测试。这也是目前公开展示中进度靠前的国产EUV光源系统样机。

本期「云启伙伴」，与您分享朗道燧岩的最新动态。

以下内容摘编自天天IC、EETOP等

为什么EUV光源被称为

“光刻机的心脏”

芯片制程不断向更小尺寸演进，对光刻所使用的光源提出了越来越高的要求。

EUV 光刻使用波长仅 13.5nm的极紫外光，相比传统 DUV 光刻使用的 193nm 光源，波长大幅缩短，也因此成为先进制程继续向前演进的重要技术基础。

但13.5nm的光并不能通过普通激光器直接产生。

目前产业采用的主流方案之一，是LPP（Laser Produced Plasma，激光诱导等离子体）：用高功率激光高速、精准地击中微米级锡液滴，将其转化为高温等离子体，再释放出EUV光。

这个看似简单的过程，背后同时涉及高功率激光、锡液滴控制、等离子体物理、精密光学、污染控制以及复杂系统集成。每一个环节的精度、稳定性和寿命，都会直接影响整套系统能否真正进入产线。

即使对于已经实现商业化的国际厂商，EUV光源也经历了漫长的工程化过程。ASML披露，其早期原型系统的EUV输出功率只有约1W，此后持续提升到数十瓦、100W，并在2018年实现250W，为规模化生产奠定基础。

这也是EUV光源最难的地方之一：原理成立，只是起点。真正的挑战，是让一束光变得足够强、足够稳定，并且能够持续工作。

工博会现场，朗道燧岩展示的EUV光源系统样机

从一束EUV光，

到一套可以工作的系统

朗道燧岩成立于2024年，创始人王豪博士团队的技术积累源于清华大学气体放电等离子体实验室，长期聚焦LPP-EUV光刻光源。

成立至今，公司已获财务资本、产业资本与地方政府基金三类资本支持——财务投资人包括云启资本、沃衍资本、芯能投资等；产业战略投资方包括中芯聚源、紫金矿业等；政府引导基金则涵盖张江高科、金桥资本、常州金控等。

目前，公司已经形成从低功率验证向高功率系统演进的产品路线。

其中，低功率EUV光源系统 FlintNano LPP-OXXO已进入产品化阶段。根据公司公开参数，其驱动激光功率为1000W，激光频率1–20kHz，转换效率超过2%，EUV输出超过15W，持续工作时间超过100小时。

面向更高功率需求的 FlintMicro-LPP系列，目前也已经完成原理论证。

围绕LPP-EUV这一复杂系统，公司还向底层关键能力继续延伸。目前朗道已经形成"燧岩、辉光、天算"三大业务板块，分别布局EUV光源系统、大功率CO₂激光器和等离子体仿真软件。

从光源本身，到驱动激光，再到底层物理过程的计算与模拟，这些能力最终都指向同一个目标：持续提升EUV光源的功率、稳定性和工程可用性。

朗道燧岩官网

从样机走向产线，

工程化才刚刚开始

此次工博会首秀，让国产EUV光源第一次以更完整的系统样机进入公众视野。

与此同时，朗道团队对于产业化节奏保持着清晰判断。

据现场工作人员介绍，目前系统距离真正量产预计仍需要 3—5年。接下来需要继续解决的核心问题，包括进一步提升输出功率、长期运行稳定性，以及整体系统的可靠性。

对于EUV这样高度复杂的精密系统而言，从"能够产生EUV光"，到"做出样机"，再到能够长时间稳定运行并进入晶圆产线，中间仍然隔着大量工程问题。

但也正因此，这次进展值得被记录。

它意味着，一项长期被认为门槛极高的底层技术，正在国内团队手中，从实验室验证逐渐走向真实的工程系统。

我们持续关注那些研发周期长、技术壁垒高，却可能真正推动产业底层能力向前一步的创业者。

从实验室中的一束光，到真正走进产线，还有很长的路。朗道燧岩正在一步一步，把它变成一套可以被验证、被迭代，也最终有机会被使用的系统。